테크노벨리 Gate 2 통과 – 차세대융합기술연구원 정문 통과 – 오른쪽 빨간 난간 계단이용하여 지하 1층으로 이동-B동 방향으로 오면 화장실 옆 주사전자현미경실 위치 / 주사전자현미경실을 지나쳐서 직진시 왼쪽에 투과전자현미경실 위치
- 집속이온빔 주사전자현미경 1(FIB-SEM1)
- 집속이온빔 주사전자현미경 2(FIB-SEM2)
- 플라즈마집속이온빔 주사전자현미경(PFIB-SEM)
- 주사전자현미경(FE-SEM)-교육이수자
- 수차보전투과전자현미경(TEM)
테크노벨리 Gate 2 통과 - 차세대융합기술연구원 정문 통과 – B동 방향으로 직진하여 엘리베이터 탑승 후 5층으로 이동-정면에 오픈랩 입구(유리문) 위치
- 전기화학계측기(Potentiostat)
- UV-VIS-NIR spectrometer
- Probe station & 4 Point system
- 글로브박스(Glovebox)
- 레이저 간섭계
- 3D 광학 표면 프로파일러
- 디스펜서(Dispensor)
- 플라즈마 세정기
- 접촉식표면단차측정기(Alpha step)
테크노벨리 Gate 2 통과 - 차세대융합기술연구원 정문 통과 – 오른쪽 빨간 난간 계단이용하여 지하 1층으로 이동-C동 방향으로 이동- 엘리베이터 앞 왼쪽에 표면분석실 위치
- 엑스선/오제전자 분광기(XPS/AES)
- 비행시간형 이차이온질량분석기(TOF-SIMS)
- 엑스선 회절분석기(XRD)
테크노벨리 Gate 2 통과 - 차세대융합기술연구원 정문 통과 – 오른쪽 빨간 난간 계단이용하여 지하 1층으로 이동-C동 방향으로 이동 - 표면분석실을 지나쳐서 직진 - B1 클린룸 위치
- Wet station
- Mask aligner & Exposure
- Sputtering system
- 열증발증착장비(Themal Evaporator)
테크노벨리 Gate 2 통과 – D동 앞 내리막길로 이동 - 경기도반도체기술센터 입구 계단 이용하여 2층 이동 - 경기도반도체 기술센터 사무실 위치
[개인정보 수집 및 이용에 대한 안내]
1 개인정보의 수집.이용 목적[개인정보 제3자 제공 동의]
1. 반도체기술센터는 질 높은 사업운영을 위해 다음과 같이 회원의 개인정보를 제공할 수 있으며, 이를 위해 가입 절차 시 미리 회원에게 동의를 구합니다.본 사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나 그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며 이를 위반 시 정보통신망법에 의해 형사처벌됨을 유념하시기 바랍니다.